英特尔霸气官宣！发布芯片新工艺命名新规：打脸台积电/三星＂造假＂

　　原标题：英特尔霸气官宣！发布芯片新工艺命名新规：打脸台积电/三星"造假"

 

　　相信大家都知道，全球IDM芯片巨头—Intel再次颁发了一则“芯片新工艺命名新规”，在全球芯片产业链中掀起了一股掀然大波，因为Intel直接公布了自家的制程技术和实现路径，直接抛弃了目前台积电、三星的芯片工艺命名规则，不再采用XXnm工艺来命名，而是采用intel7、intel4、intel3、intel 20A、intel18A等规则来重新定义芯片制程工艺；

 

　　Intel为何要改变传统的芯片工艺命名规则呢？

　　其实在Intel、三星所制定的芯片制程工艺规则下，让Intel非常被动，一直都只能够处于制程工艺落后好几代的尴尬局面，其次便是台积电、三星一直都在芯片制程工艺上进行掺水，而Intel方面显然不想同流合污，直接将10nm工艺叫成7nm工艺，将7nm工艺叫成5nm工艺，所以Intel重新制定了一个芯片命名规则，让自家的芯片产品不再与XXnm工艺挂钩，但对于很多消费者而言，目前Intel的芯片命名新规，到底对应的是几纳米工艺呢？

 

　　我们从Intel官宣的信息来看，也是可以找到一些踪迹，例如Intel将会在2021年下半年推出Intel 7，但并不是7nm制程工艺，而是英特尔之前发布的10nm Enhanced SuperFin；将会在2023年上半年发布Intel 4，同样也不是4nm工艺，而是Intel之前上PPT发布的7nm工艺，Intel 3是之前PPT发布的7nm+；Intel18A是英特尔标准下的5nm+，Intel20A是英特尔标准下的5nm；我们都知道Intel的 10nm工艺可以比肩台积电、三星的7nm制程工艺，而Intel的7nm工艺可以比肩台积电的5nm、三星的3nm制程工艺，因为Intel更加遵循摩尔定律，不会虚标芯片工艺制程。

 

　　但这也意味着Intel在五年内的芯片制程工艺，最多也只能够突破至5nm+，而更加高端的3nm、2nm制程工艺，则需要等到5年以后了，我们从Intel的标准来看，台积电、三星芯片制程工艺存在虚标，但如果以台积电、三星的标准来看，Intel无疑就处于落后水准。