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国产5纳米光刻技术获得重要进展：实现5纳米特征线宽

2020-07-09 20:11:07来源：云计算视界编辑：时寒峰

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　　原标题：国产5纳米光刻技术获得重要进展：实现5纳米特征线宽

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